Zaloguj się Załóż konto

61 881-96-90
733-68-66-68
poniedziałek - piątek: 9:00 - 17:00 sobota: nieczynne

Koszyk00,00 zł

Twój koszyk jest pusty ...

Schowek00,00 zł

Twój schowek jest pusty

Strona główna » APARATY / KAMERY / OBIEKTYWY » Obiektywy, filtry i akcesoria » Filtry » Filtry UV » K&F Concept KF4298 Nano-C HMC - filtr UV z wielowarstwową powłoką, 55mm

K&F Concept KF4298 Nano-C HMC - filtr UV z wielowarstwową powłoką, 55mm

K&F Concept KF4298 Nano-C HMC - filtr UV z wielowarstwową powłoką, 55mm - zestaw

K&F Concept KF4298 Nano-C HMC - filtr UV z wielowarstwową powłoką, 55mm

2 osoby kupiły 2 produkty

Dostępność: dostępny od ręki

Czas wysyłki: natychmiastowa

Koszt wysyłki: od 9,99 zł

Numer katalogowy: 6936069208771

Kod producenta: KF4298

Kod EAN: 6936069208771

Stan produktu: Nowy

Gwarancja: Gwarancja dystrybutora PL

Cena brutto: 36,50 zł

Cena netto: 29,67 zł

Przed zakupem produktu wybierz wymagane opcje.

Ilość: szt.
Dodaj do koszyka

Kup przez Allegro

dodaj do schowka

Zamów produkt do godziny: 14:30. Zamówienie wyślemy jeszcze dzisiaj!

Pozostało jeszcze:

MASZ PYTANIE ?

Zapytaj o produkt

61 881-96-90
733-68-66-68
poniedziałek - piątek: 9:00 - 17:00 sobota: nieczynne

Poleć znajomemu

Opis produktu
Specyfikacja techniczna
Recenzje produktu (0)

KF Concept KF4298 Nano-C HMC
filtr UV z wielowarstwową powłoką, 55mm

Filtr UV KF Concept Nano-C HMC UV to niezastąpione narzędzie w niezbędniku każdego fotografa. Nie tylko skutecznie ochroni Twój sprzęt przed kurzem, zanieczyszczeniem i uszkodzeniami mechanicznymi, ale także pomoże poprawić jakość zdjęć. Dzięki wielowarstwowej powłoce HMC (Hard Multi-Coated) oraz zastosowaniu japońskiego szkła optycznego, filtr zapewnia redukcję odbić i odblasków, poprawiając kontrast i wyrazistość fotografii. Ultracienka ramka o grubości 3,3 mm zapobiega występowaniu efektu winietowania. W zestawie znajdziesz również plastikowe etui, które zapewni odpowiednią ochronę filtra w transporcie.

Charakterystyka:

filtr UV kompatybilny z wieloma obiektywami
chroni obiektyw przed kurzem, zanieczyszczeniem i odciskami palców
dodatkowa ochrona przed uszkodzeniami mechanicznymi przedniej soczewki obiektywu
redukuje efekty promieniowania UV, poprawiając jakość zdjęć
idealny do fotografii krajobrazowej – eliminuje zamglenia atmosferyczne
wykonany z wysokiej jakości japońskiego szkła optycznego
18-warstwowa powłoka HMC (Hard Multi-Coated)
ultracienka ramka (3,3 mm grubości) zapobiega winietowaniu na obiektywach szerokokątnych
etui ochronne w zestawie

Doskonała ochrona obiektywu

Twój obiektyw zasługuje na najlepszą ochronę - i właśnie to oferuje filtr UV KF Concept Nano‑C HMC UV. Skutecznie zabezpiecza soczewkę przed odciskami palców, kurzem, drobnymi zarysowaniami oraz uszkodzeniami mechanicznymi, działając niczym folia ochronna na ekranie smartfona. To prosty i skuteczny sposób, by zachować sprzęt w nienagannym stanie, bez wpływu na jakość obrazu.

Ochrona przed promieniowaniem UV

Promieniowanie ultrafioletowe, obecne nawet w idealnych warunkach oświetleniowych, potrafi niekorzystnie wpływać na jakość zdjęć, powodując zamglenia, spadek kontrastu czy utratę ostrości. Filtr KF Concept Nano‑C HMC UV stanowi niewidzialną barierę ochronną, eliminującą wpływ UV na obraz. Dzięki niemu Twoje zdjęcia zyskują większą klarowność, naturalny kontrast i czystość barw – niezależnie od pogody i pory dnia.

Wielowarstwowa powłoka HMC

Oznaczenie HMC (Hard Multi‑Coated) odnosi się do twardej, wielowarstwowej powłoki antyrefleksyjnej, zastosowanej po obu stronach szkła. Jej zadaniem jest redukcja odbić, odblasków i flar, które mogą powstawać w wyniku światła odbitego od powierzchni soczewek. Dzięki temu filtr poprawia kontrast i wyrazistość zdjęć, zapobiegając powstawaniu zamgleń atmosferycznych. Efektem są kadry o większej głębi i lepszej reprodukcji szczegółów.

Japońskie szkło optyczne - wysoka jakość i trwałość

Sercem filtra KF Concept Nano‑C HMC UV jest japońskie szkło optyczne, cenione za doskonałą przejrzystość, trwałość i precyzję wykonania. Materiał ten zapewnia wysoką transmisję światła, nie wprowadzając przekłamań kolorystycznych ani utraty ostrości. To idealny wybór dla wymagających fotografów, którzy oczekują jakości i bezpieczeństwa sprzętu bez kompromisów.

Ultracienki profil - brak winietowania

Filtr KF Concept Nano‑C HMC UV zamknięto w ultracienkiej ramce o grubości zaledwie 3,3 mm, co eliminuje ryzyko winietowania, nawet podczas pracy z szerokokątnymi obiektywami. Smukły profil i precyzyjne spasowanie zapewnia pełną kompatybilność z długimi teleobiektywami oraz obiektywami o dużych ogniskowych. Dzięki temu Twoje zdjęcia pozostają klarowne, równomiernie oświetlone i wolne od zniekształceń.

Kompatybilność:

obiektywy z gwintem mocowania filtrów 55 mm

Zawartość zestawu:

1x filtr UV
1x etui ochronne

Informacje handlowe

Typ filtra: UV
Zastosowana powłoka: Hard Multi-Coated (18 warstw)
Grubość: 3,3 mm
Średnica: 55 mm

Nikt jeszcze nie napisał recenzji do tego produktu. Bądź pierwszy i napisz recenzję.

Tylko zarejestrowani klienci mogą pisać recenzje do produktów. Jeżeli posiadasz konto w naszym sklepie zaloguj się na nie, jeżeli nie załóż bezpłatne konto i napisz recenzję.

Klienci zakupili także

Promocja -14%